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密真空氣氛爐

概述詳情:密真空氣氛爐廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

  • 中間商物理性質:生產廠家
  • 刷新時間間隔:2026-03-15
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好產品說明
品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)60/min
內部尺寸300-200-120mm加熱方式硅碳棒
最大功率4000kW控溫精度1℃
最高溫度1400℃價格區間1萬-2萬
儀器種類真空爐產地類別國產
應用領域醫療衛生,環保,生物產業,綜合

適用范圍
      本設備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

 
密真空氣氛爐真空氣氛系統:
      真空密封系統采用特種設計技術,具有操作安全、方便、真空度高,密封性好,真空保持時間長,密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封,氣體經過流量計后由針型閥開關進入爐管內,閥控配有進氣閥,排氣、抽真空閥。減壓閥,安全閥,可通多種氣體、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體,可充入高壓氣體,氣氛壓力限值0.1MPa,采用*的密封技術,可長時間保壓,安全性能好,操作方便。


密真空氣氛爐主要技術參數:

項  目

組織

更有效用到尺寸圖

有用運用尺寸圖

可以有效使用的面積

有效率在使用寸尺

爐膛厚度

   mm

200X150X150

300X200X200

500X300X200

500X500X500

 平均溫度種類

1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃

 把握度

±1℃

溫差透亮度

≤1

≤1℃

≤1.5℃

≤2℃

電加熱構件

 

利用熱度而定,采取內阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。

線電壓/速率

 AC/Hz

220/50

380/50

380/50

380/50

設計方案工作效率

KW

4

10

15

25

溫控儀行為

 

微電子產品智力調試高技術,更具PID調試、全電腦自動把控、自整定職能,多段子系統c語言編程,并可規劃所有加溫、隔熱、室內降溫子系統,控溫差高;集成化傳感器操縱硅把控、移相解鎖。

 保養系統設計

獨立性超溫呵護、背壓式汽輪機、超流、漏電、出現短路等呵護,自然化能力較高,

核心附近

高溫度防護手套,坩堝鉗,低熱電氣元件,門堵,優秀率證,原因分析書,保質書。

 可選擇

無紙記錄儀,有紙記錄儀,電腦液晶觸摸屏,人機畫面
通訊聯機功能,多臺設備臺電腦控制,打印與保存數據,實現操作簡單方便,實時可查看與保存數據。

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